所属部门：
　　硅器件与集成技术研究室(一室)
　　简历：
　　undefined
　　研究方向：
　　undefined
　　学科类别：
　　社会任职：
　　获奖及荣誉：
　　“亚30纳米CMOS器件相关的若干关键工艺技术研究”获2005年国家技术发明二等奖;“高性能栅长27纳米CMOS器件及关键工艺技术研究”获2004年北京市科学技术一等奖;“0.18/0.1微米CMOS集成电路关键技术研究”获2004年北京市科学技术二等奖。
　　代表论著：
　　翻译专著《半导体制造技术》1部，参与编写《SOICMOS技术及其应用》第6章科学出版社，《中国材料工程大典》第11卷第3篇第3节化学工业出版社；发表论文100余篇。
　　承担科研项目情况：
　　负责或参与了多项重要国家科技项目研究。
　　973计划项目“纳米尺度硅集成电路器件与工艺基础研究（高性能低功耗新型纳米尺度MOS器件研究）”等。
　　备注：
　　培养研究生：10余名。